抛光首要使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表层的硅原子在表层做氧化还原的动力学步骤。这是反应的主流。抛光表层反应物摆脱硅单晶表层，即解吸步骤使未作用的硅单晶重新裸露出来的动力学步骤。它是管控抛光速率的另一个重要步骤。如若化学腐蚀功能大于机械抛光功能，则抛光片表层产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如若机械磨削功能大于化学腐蚀功能，则表层产生高损坏层！

探擎科技专注首饰抛光液的成分检测项目：

成分检测：对物品中的基本配方树脂成分通过仪器的精密分析还原有关微观谱图比对谱图数据库分析检测出各种成分含量。

辅导制造：在分析检测出首饰抛光液配方比例后，若厂家有条件，可在固定程度上辅导厂家做制造

配方分析成分还原：运用还原各种成分组成及其比例，解析出首饰抛光液。

异物诊断：就首饰抛光液中的异物，确定其配方树脂成分，辅导厂家分析检测出该异物是怎么产生的。

探擎科技分析检测首饰抛光液配方比例的力量：

（1）先进的接受仪器：探擎科技自主建立试验场地，拥有多台先进仪器，能多领域分析检测物品，还原图谱

（2）专业核心的分析检测工程师：探擎科技拥有职业的分析测试工程师和成熟的领域制造研究生产经验，帮厂家消除化工配方比例难题。

（3）成熟的微观图谱：探擎科技积累了深厚的配方比例剖析生产经验，拥有较大的微观图谱库。

（4）后面指导：探擎科技可以根据厂家需求，提供后面跟踪工艺性指导。